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從微觀上解析低溫等離子體表面處理的主要形式
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發布時間：
2023-07-04
從微觀上解析低溫等離子體表面處理的主要形式：
等離子體表面處理是一種基于等離子體中產生的電子、離子、活性微粒和紫外線等和處理材料的表面相互作用，對處理材料表面進行滅菌、清洗、接枝和功能化等性能達到提高為目的方法。低溫等離子體表面處理具有效率高、速度快、功能多、可大面積工業化運行等特點。目前不論在航空航天、微電子行業、顯示器、半導體工業等高端產業，在印刷、包裝、紡織等和日常生活緊密相關的領域，等離子體改性在越來越多被應用。采用低溫等離子體表面處理可以在較低的溫度下實現基體的高表面能、高附著力、高附加值。
低溫等離子體表面處理是低氣壓放電（電暈、高頻和微波等）產生的電離氣體，在電場的作用下，氣體中的自由電子從電場獲得能量成為高能量電子。這些高能量電子與氣體中的分子、原子碰撞，如果電子的能量大于分子或原子的激發能就會產生激發分子或激發原子自由基、離子和具有不同能量的輻射線，低溫等離子體中的活性微粒（可以是化學活性氣體、惰性氣體或金屬元素氣體）具有的能量一般都接近或超過Ｃ－Ｃ鍵或其他含Ｃ鍵的鍵能。我們通過離子轟擊或注入聚合物，氣體產生斷鍵或引入官能團，使表面活性化以達到改性的目的。
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