誠峰20年專注等離子清洗技術研發
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真空等離子清洗機適用于印制線路板行業，半導體IC領域、硅膠、塑膠、聚合體領域，汽車電子行業，航空工業等。印制線路板行業：高頻板表面活化，多層板表面清潔、去鉆污,軟板、軟硬結合板表面清潔、去鉆污，軟板補強前活化。半導體IC領域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領域硅膠、塑膠、聚合體的等離子表面粗化、刻蝕、活化。
真空式等離子清洗機系統廠家是運用氣體電離形成的等離子體對產品工件進行表面處理，不論是清洗還是表面活化，為了更好地取得優質的處理效果，針對不同的產品需要挑選不一樣的加工工藝氣體，等離子清洗機常見的加工工藝氣體有氧氣，氬氣，氮氣，空氣壓縮，二氧化碳，氫氣，四氟化碳等。
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- 商品名稱: CRF-VPO-4L-S
- 商品編號: CRF-VPO-4L-S[0]
超大處理空間，提升處理產能，采用PLC+觸摸屏控制系統，精準的控制設備運行；<br> 可按照客戶要求定制設備腔體容量和層數，滿足客戶的需求；保養維修成本低，便于客戶成本控制；<br> 高精度，快響應，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業的技術支持。
真空等離子清洗機適用于印制線路板行業，半導體IC領域、硅膠、塑膠、聚合體領域，汽車電子行業，航空工業等。印制線路板行業：高頻板表面活化，多層板表面清潔、去鉆污,軟板、軟硬結合板表面清潔、去鉆污，軟板補強前活化。半導體IC領域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領域硅膠、塑膠、聚合體的等離子表面粗化、刻蝕、活化。
真空式等離子清洗機系統廠家是運用氣體電離形成的等離子體對產品工件進行表面處理，不論是清洗還是表面活化，為了更好地取得優質的處理效果，針對不同的產品需要挑選不一樣的加工工藝氣體，等離子清洗機常見的加工工藝氣體有氧氣，氬氣，氮氣，空氣壓縮，二氧化碳，氫氣，四氟化碳等。
關鍵詞:- CRF-VPO-4L-S
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真空等離子清洗機適用于印制線路板行業，半導體IC領域、硅膠、塑膠、聚合體領域，汽車電子行業，航空工業等。印制線路板行業：高頻板表面活化，多層板表面清潔、去鉆污,軟板、軟硬結合板表面清潔、去鉆污，軟板補強前活化。半導體IC領域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領域硅膠、塑膠、聚合體的等離子表面粗化、刻蝕、活化。
真空式等離子清洗機系統廠家是運用氣體電離形成的等離子體對產品工件進行表面處理，不論是清洗還是表面活化，為了更好地取得優質的處理效果，針對不同的產品需要挑選不一樣的加工工藝氣體，等離子清洗機常見的加工工藝氣體有氧氣，氬氣，氮氣，空氣壓縮，二氧化碳，氫氣，四氟化碳等。
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名稱（Name）
真空式等離子處理系統
型號（Model）
CRF-VPO-4L-S
控制系統（Control system）
PLC+觸摸屏
電源（Power supply）
380V/AC,50/60Hz, 3kw
中頻電源功率（RF Power）
1000W/40KHz/13.56MHz
容量（Volume ）
30L(Option)
層數（Electrode of plies ）
4(Option)
有效處理面積（Area）
200(L)*150(W)(Option)
氣體通道（Gas）
兩路工作氣體可選：Ar、N2、CF4、O2
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- 商品名稱: CRF-VPO-4L-S
- 商品編號: CRF-VPO-4L-S[0]
超大處理空間，提升處理產能，采用PLC+觸摸屏控制系統，精準的控制設備運行；<br> 可按照客戶要求定制設備腔體容量和層數，滿足客戶的需求；保養維修成本低，便于客戶成本控制；<br> 高精度，快響應，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業的技術支持。
真空等離子清洗機適用于印制線路板行業，半導體IC領域、硅膠、塑膠、聚合體領域，汽車電子行業，航空工業等。印制線路板行業：高頻板表面活化，多層板表面清潔、去鉆污,軟板、軟硬結合板表面清潔、去鉆污，軟板補強前活化。半導體IC領域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領域硅膠、塑膠、聚合體的等離子表面粗化、刻蝕、活化。
真空式等離子清洗機系統廠家是運用氣體電離形成的等離子體對產品工件進行表面處理，不論是清洗還是表面活化，為了更好地取得優質的處理效果，針對不同的產品需要挑選不一樣的加工工藝氣體，等離子清洗機常見的加工工藝氣體有氧氣，氬氣，氮氣，空氣壓縮，二氧化碳，氫氣，四氟化碳等。
關鍵詞:- CRF-VPO-4L-S
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真空等離子清洗機適用于印制線路板行業，半導體IC領域、硅膠、塑膠、聚合體領域，汽車電子行業，航空工業等。印制線路板行業：高頻板表面活化，多層板表面清潔、去鉆污,軟板、軟硬結合板表面清潔、去鉆污，軟板補強前活化。半導體IC領域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領域硅膠、塑膠、聚合體的等離子表面粗化、刻蝕、活化。
真空式等離子清洗機系統廠家是運用氣體電離形成的等離子體對產品工件進行表面處理，不論是清洗還是表面活化，為了更好地取得優質的處理效果，針對不同的產品需要挑選不一樣的加工工藝氣體，等離子清洗機常見的加工工藝氣體有氧氣，氬氣，氮氣，空氣壓縮，二氧化碳，氫氣，四氟化碳等。
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名稱（Name）
真空式等離子處理系統
型號（Model）
CRF-VPO-4L-S
控制系統（Control system）
PLC+觸摸屏
電源（Power supply）
380V/AC,50/60Hz, 3kw
中頻電源功率（RF Power）
1000W/40KHz/13.56MHz
容量（Volume ）
30L(Option)
層數（Electrode of plies ）
4(Option)
有效處理面積（Area）
200(L)*150(W)(Option)
氣體通道（Gas）
兩路工作氣體可選：Ar、N2、CF4、O2
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