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設備介紹
設備參數
應用領域
等離子處理設備主要應用于電子行業的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理;連接器表面清洗;通用行業的絲網印刷、轉移印刷前處理等。
1、灰化表面有機層:
材料表面將遭受化學轟擊;受到高溫狀態下污染物會蒸發出來;環境污染物質在較高能正離子的沖擊性下被破碎,隨后釋放出。
因為等離子每秒鐘只有透過數納米薄厚,因而污染層不可以太厚。
2、等離子清洗設備用以除去金屬氧化物:
氧化物與處理的氣體產生化學變化,這一過程用氫或氫與氬的混合物來開展。有時也選用二步生產加工技術,開始用氧氣將表層氧化五分鐘,隨后用氫與氬的混合物去除氧化層。
3、等離子蝕刻用于焊接:
一般狀況下,印刷電路板在焊接前用有機化學助焊劑處理。這種化學物焊后需要用等離子法去除,不然會產生腐蝕等問題。
4、等離子去膠、鍵合:
電鍍工藝、粘合、焊接工作中的殘余物會消弱優良鍵合,這種殘余物可以用等離子法有選擇性地除去。另外空氣氧化這也會危害鍵合的品質,也是需要等離子清洗。
-
- 商品名稱: CRF-APO-R&D-DXX-PW
- 商品編號: CRF-APO-R&D-DXX-PW
常壓等離子表面處理機可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴,使用于不同場合,滿足各種不同產品和處理環境;<br> 設備尺寸小巧,方便攜帶和移動,節省客戶使用空間;<br> 可In-Line式安裝于客戶設備產線中,減少客戶投入成本;<br> 使用壽命長,保養維修成本低,便于客戶成本控制。
等離子處理設備主要應用于電子行業的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理;連接器表面清洗;通用行業的絲網印刷、轉移印刷前處理等。
1、灰化表面有機層:
材料表面將遭受化學轟擊;受到高溫狀態下污染物會蒸發出來;環境污染物質在較高能正離子的沖擊性下被破碎,隨后釋放出。
因為等離子每秒鐘只有透過數納米薄厚,因而污染層不可以太厚。
2、等離子清洗設備用以除去金屬氧化物:
氧化物與處理的氣體產生化學變化,這一過程用氫或氫與氬的混合物來開展。有時也選用二步生產加工技術,開始用氧氣將表層氧化五分鐘,隨后用氫與氬的混合物去除氧化層。
3、等離子蝕刻用于焊接:
一般狀況下,印刷電路板在焊接前用有機化學助焊劑處理。這種化學物焊后需要用等離子法去除,不然會產生腐蝕等問題。
4、等離子去膠、鍵合:
電鍍工藝、粘合、焊接工作中的殘余物會消弱優良鍵合,這種殘余物可以用等離子法有選擇性地除去。另外空氣氧化這也會危害鍵合的品質,也是需要等離子清洗。
關鍵詞:- CRF-APO-R&D-DXX-022
-
等離子處理設備主要應用于電子行業的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理;連接器表面清洗;通用行業的絲網印刷、轉移印刷前處理等。
1、灰化表面有機層:
材料表面將遭受化學轟擊;受到高溫狀態下污染物會蒸發出來;環境污染物質在較高能正離子的沖擊性下被破碎,隨后釋放出。
因為等離子每秒鐘只有透過數納米薄厚,因而污染層不可以太厚。2、等離子清洗設備用以除去金屬氧化物:
氧化物與處理的氣體產生化學變化,這一過程用氫或氫與氬的混合物來開展。有時也選用二步生產加工技術,開始用氧氣將表層氧化五分鐘,隨后用氫與氬的混合物去除氧化層。3、等離子蝕刻用于焊接:
一般狀況下,印刷電路板在焊接前用有機化學助焊劑處理。這種化學物焊后需要用等離子法去除,不然會產生腐蝕等問題。4、等離子去膠、鍵合:
電鍍工藝、粘合、焊接工作中的殘余物會消弱優良鍵合,這種殘余物可以用等離子法有選擇性地除去。另外空氣氧化這也會危害鍵合的品質,也是需要等離子清洗。 -
名稱
(Name)
噴射型AP等離子處理系統
(Jet type plasma processing system)
等離子電源型號
(Plasma power model)
CRF-APO-R&D-DXX-PW
電源
(Power supply)
220V/AC,50/60Hz
功率
(Power)
1000W/25KHz
(Option)
功率因素
(Power factor)
0.8
內部控制模式
(Internal control mode)
數字控制
(Digital control)
外部控制模式
(External conteol mode)
啟停I/O
(ON/OFF I/O)
工作氣體
(Gas)
Compressed Air (0.4mpa)/N2
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- 商品名稱: CRF-APO-R&D-DXX-PW
- 商品編號: CRF-APO-R&D-DXX-PW
常壓等離子表面處理機可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴,使用于不同場合,滿足各種不同產品和處理環境;<br> 設備尺寸小巧,方便攜帶和移動,節省客戶使用空間;<br> 可In-Line式安裝于客戶設備產線中,減少客戶投入成本;<br> 使用壽命長,保養維修成本低,便于客戶成本控制。
等離子處理設備主要應用于電子行業的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理;連接器表面清洗;通用行業的絲網印刷、轉移印刷前處理等。
1、灰化表面有機層:
材料表面將遭受化學轟擊;受到高溫狀態下污染物會蒸發出來;環境污染物質在較高能正離子的沖擊性下被破碎,隨后釋放出。
因為等離子每秒鐘只有透過數納米薄厚,因而污染層不可以太厚。
2、等離子清洗設備用以除去金屬氧化物:
氧化物與處理的氣體產生化學變化,這一過程用氫或氫與氬的混合物來開展。有時也選用二步生產加工技術,開始用氧氣將表層氧化五分鐘,隨后用氫與氬的混合物去除氧化層。
3、等離子蝕刻用于焊接:
一般狀況下,印刷電路板在焊接前用有機化學助焊劑處理。這種化學物焊后需要用等離子法去除,不然會產生腐蝕等問題。
4、等離子去膠、鍵合:
電鍍工藝、粘合、焊接工作中的殘余物會消弱優良鍵合,這種殘余物可以用等離子法有選擇性地除去。另外空氣氧化這也會危害鍵合的品質,也是需要等離子清洗。
關鍵詞:- CRF-APO-R&D-DXX-022
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等離子處理設備主要應用于電子行業的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理;連接器表面清洗;通用行業的絲網印刷、轉移印刷前處理等。
1、灰化表面有機層:
材料表面將遭受化學轟擊;受到高溫狀態下污染物會蒸發出來;環境污染物質在較高能正離子的沖擊性下被破碎,隨后釋放出。
因為等離子每秒鐘只有透過數納米薄厚,因而污染層不可以太厚。2、等離子清洗設備用以除去金屬氧化物:
氧化物與處理的氣體產生化學變化,這一過程用氫或氫與氬的混合物來開展。有時也選用二步生產加工技術,開始用氧氣將表層氧化五分鐘,隨后用氫與氬的混合物去除氧化層。3、等離子蝕刻用于焊接:
一般狀況下,印刷電路板在焊接前用有機化學助焊劑處理。這種化學物焊后需要用等離子法去除,不然會產生腐蝕等問題。4、等離子去膠、鍵合:
電鍍工藝、粘合、焊接工作中的殘余物會消弱優良鍵合,這種殘余物可以用等離子法有選擇性地除去。另外空氣氧化這也會危害鍵合的品質,也是需要等離子清洗。 -
名稱
(Name)
噴射型AP等離子處理系統
(Jet type plasma processing system)
等離子電源型號
(Plasma power model)
CRF-APO-R&D-DXX-PW
電源
(Power supply)
220V/AC,50/60Hz
功率
(Power)
1000W/25KHz
(Option)
功率因素
(Power factor)
0.8
內部控制模式
(Internal control mode)
數字控制
(Digital control)
外部控制模式
(External conteol mode)
啟停I/O
(ON/OFF I/O)
工作氣體
(Gas)
Compressed Air (0.4mpa)/N2
榮譽證書





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